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    熱門關鍵詞：石墨烯等低維材料的研發、制備、檢測和應用
    
        
    
        	
    
              
    
              
    
              
    
            
    
        
    
        
    
    
    

    







    
	
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    羥基化石墨烯量子點
    
            
    簡要描述：羥基化石墨烯量子點 Hydroxylated GQDs
    制備方法：水熱法
    成分：羥基化石墨烯量子點
    外觀：無色溶液
    發光峰：375納米
    粒度：6納米
    濃度：1毫克/毫升（可達到2mg/ml）
    溶液：水和乙二醇的混合物
    規格：100ml




    Emission Photos (1) of ACS Material Hydroxylated Graphene Quantum Dots Excited 
    
            
      

    • 更新時間：2024-06-02
      • 
           
    • 產品型號：HG 
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    • 廠商性質：生產廠家
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    • 訪  問  量：533
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    詳細介紹
    
            
    
            	
     
    羥基化石墨烯量子點 Hydroxylated GQDs
    制備方法：水熱法
    成分：羥基化石墨烯量子點
    外觀：無色溶液
    發光峰：375納米
    粒度：6納米
    濃度：1毫克/毫升（可達到2mg/ml）
    溶液：水和乙二醇的混合物
    規格：100ml

    Emission Photos (1) of ACS Material Hydroxylated Graphene Quantum Dots Excited by Natural Light (left) and UV Light (right)
    TEM Image (2) of ACS Material Hydroxylated Graphene Quantum Dots 
    Absorption Spectra (3) of ACS Material Hydroxylated Graphene Quantum Dots

     
      
            
    
            
            
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